マスクデータ処理ソリューション

数年からMPW用のマスクデータ処理の優れてきたイクスヤリスは現在、完全に総合的なマスクデータ処理フローを与えるため供給を拡げます。この処理フローはマスク作成の最先端プロセスを速め、自動化し、そしてマスクとシリコンの原価を低減し、商品化までの時間を短縮します。

• 費用分担へ、MPW開発が最適化されました
• 人的ミスを避けるために、フレーム生成が完全に自動化されました
• 生産性を高めるために、直観的なマスクセット作成方法を使用します
• シリコンの利用を最大にするために、ウェハマップを最適化する
  製造の前、GDSII及びOASISファイルで潜在的な問題を
  フィルタするために、先端的な照合機能を使用します
• ショット数、使用できるダイの数、禁止領域などのような様々な基準に基づいて、露光ショットマップ(exposure shot map, あるいは step plan）を最適化します
• フレームレベルとウェハレベルでダミー挿入をユーザーに完全カスタマイズ可能にしました
• 製造プロセスを能率化するため、マスク管理とマスクオーダー
  フォームに対して強力なSQLデータベースの相互作用を使用します

ダミーメタル挿入ソリューション

現在、工場の産出量を増やすのに、CMP作用から引き起こされた金属挿入、及びダミー挿入は先端的なプロセスに対して必要なものであります。ダミー挿入はチップやウェハにおいて均一な分布型を確保することの故に製造性は向上します。これらの電気無効な追加多角形たちは寄生効果を起こし、正確なデザインの行動とタイミングにも影響を与える可能性があります。

イクスヤリスのソリューションによって、産出向上とデザインパフォーマンスの間に妥協も譲歩もありません。特許を得たダミー分布アルゴリズムのおかげで、イクスヤリスのプラナリゼーション（平坦化）方法は半導体業界の最も複雑な要求を満たしてまいりました。

イクスヤリスのダミーメタル挿入ツールが半導体大手と共に協力開発され、最先端プロセス（65ナノメートル以下）で製造用に使用されてきました。